국내 이차전지 대기업의 핵심 기술이 해외로 유출될 뻔한 사건이 발생하면서 산업계에 비상이 걸렸다. 사진 파일 3,000여 장 분량의 기밀 자료가 중국 등 경쟁 국가로 넘어갈 뻔한 정황이 드러났기 때문이다.
28일 특허청에 따르면 해당 기업의 전직 팀장 A 씨는 퇴사를 앞두고 자택 등에서 회사의 국가첨단전략기술이 포함된 이차전지 관련 정보를 몰래 촬영해 빼돌렸다. 자료에는 셀 설계 정보, 제품·기술 개발 로드맵, 핵심 소재인 음극재 개발 전략 등 수십조 원대 가치의 기술이 포함돼 있었던 것으로 확인됐다.
이 과정에서 같은 회사에 재직 중이던 직원 B 씨도 자료 유출에 가담한 것으로 드러났다. A 씨는 에이전트 C 씨를 통해 해외 소재 업체와 접촉을 시도했고, 자료 일부는 실제 중국 기업에 넘기려 했던 것으로 알려졌다.
특허청은 지난해 11월 국가정보원으로부터 관련 첩보를 받고 수사에 착수했다. 이후 A 씨의 주거지를 압수수색 해 증거를 확보했다. 이후 추가 조사와 압수수색을 통해 B 씨, C 씨를 추가 입건했고 이들을 국가전략기술 보호법 및 영업비밀보호법 위반 혐의로 기소했다.
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이 같은 기술 유출 시도는 이번이 처음이 아니다. 최근에도 삼성전자와 SK하이닉스의 전직 직원들이 반도체 핵심 공정 정보를 중국 업체에 넘긴 혐의로 유죄 판결을 받은 바 있다.
정부는 기술 유출에 대한 처벌을 강화하는 방향으로 대응하고 있다. 대법원 양형위는 산업기술 침해에 대한 양형 기준을 마련해 국가 핵심기술 유출 시 최대 18년형까지 선고가 가능하도록 했다.
김완기 특허청장은 “최근 5년간 기술 유출로 인한 피해액은 약 23조 원에 달할 것으로 보인다”라며 “향후 유관 기관과 협력을 강화해 국가 첨단기술을 지켜내겠다”라고 밝혔다.
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