삼성전자의 국가 핵심기술을 중국 반도체 기업에 유출한 혐의로 기소된 전직 삼성전자 부장이 항소심에서 감형 판결을 받았다. 기술 유출이라는 중대한 범죄에도 불구하고 일부 정상이 참작됐다는 점에서 논란이 예상된다.
서울고등법원 형사8부는 23일 산업기술보호법 위반 등의 혐의로 기소된 김 모 씨에게 징역 6년과 벌금 2억 원을 선고했다. 이는 1심에서 선고된 징역 7년보다 1년 줄어든 형량이다. 반면, 함께 기소된 공범 3명에 대해서는 징역형 집행유예부터 징역 2년 6개월까지 원심과 동일한 형량이 유지됐다.
재판부는 반도체 기술의 국외 유출에 대해 “국가 산업 경쟁력에 중대한 악영향을 미칠 수 있는 심각한 범죄”라고 지적하면서도 김 씨 개인의 사정 일부를 고려해 형량을 낮췄다고 밝혔다. 구체적으로 재판부는 “김 씨가 다니던 회사에서 해고된 후 재취업이 어려워 중국에 취업하게 되었고, 삼성전자 핵심 기술의 유출에 직접 관여하지는 않았다”라고 판시했다.
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김 씨와 공범들은 중국의 반도체 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 이직한 후, 삼성전자의 D램 공정 관련 국가 핵심기술을 불법적으로 취득하고 이를 사용한 혐의로 기소됐다. 검찰은 이 기술 유출로 인해 삼성전자가 입을 것으로 추정되는 2024년 매출 손실만 수조 원에 달할 수 있다고 밝혔다.
앞서 1심 재판부는 기술 유출 범죄에 대해 “해당 기업이 투자한 막대한 시간과 비용을 무용지물로 만들 뿐 아니라, 국가 전체의 산업 경쟁력에 타격을 줄 수 있다”라며 “그 피해 규모는 상상을 초월할 수준일 것”이라고 질책한 바 있다.
항소심에서도 재판부는 범죄의 중대성을 인정했지만, 김 씨가 일부 책임을 인정하고 반성한 점, 핵심 기술 유출과 직접적 연관이 낮다는 점 등을 참작해 형을 일부 감경했다.
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