반도체 기술 中에 빼돌린 前 삼성 연구원…이런 최후

국내 반도체 핵심 기술을 중국으로 유출한 사건에 대해 법원이 중형을 선고하면서 산업 기술 유출 문제에 대한 경각심이 다시 커지고 있다. 특히 수조 원대 투자로 개발된 첨단 공정 기술이 해외로 넘어간 것으로 확인되면서 단순 기업 피해를 넘어 국가 경쟁력 훼손 문제로까지 확산되는 양상이다.

이번 판결은 기술 유출 범죄에 대한 사법부의 엄중한 인식을 드러낸 사례로 평가된다. 반도체 산업이 국가 핵심 전략 산업으로 꼽히는 상황에서 관련 기술 보호 필요성에 대한 목소리도 다시 높아지고 있다.

서울중앙지법 형사합의28부는 22일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 연구원 전모 씨에게 징역 7년을 선고했다. 재판부는 해당 기술이 국가 핵심기술에 해당하며 피고인이 유출 과정에 관여한 사실이 인정된다고 판단했다.

특히 기업이 막대한 비용을 투입해 개발한 기술이 해외에서 활용되도록 한 점을 중대하게 봤다. 재판부는 “기업뿐 아니라 국가 전체에 손실을 끼친 행위”라며 엄중한 처벌이 불가피하다고 밝혔다.

전 씨는 삼성전자에서 근무하던 시절 확보한 D램 반도체 공정 기술을 중국 반도체 기업으로 넘긴 혐의를 받는다. 그는 또 다른 전직 임직원과 함께 중국 기업 CXMT로 이직하는 과정에서 관련 기술을 유출한 것으로 조사됐다. 해당 기업은 중국 지방정부 자금이 투입돼 설립된 D램 반도체 회사로 알려져 있다.

유출된 기술은 삼성전자가 약 1조 원대 이상의 비용을 들여 개발한 10나노급 D램 공정 기술로 파악됐다. 이는 당시 세계 최초 수준의 기술로 평가되며 반도체 시장 경쟁력과 직결되는 핵심 자산으로 분류된다. 업계에서는 해당 기술 유출이 국내 반도체 산업 전반에 미칠 영향도 적지 않을 것으로 보고 있다.

전 씨는 기술 제공 대가로 상당한 금전적 이익을 취한 것으로 조사됐다. 계약 인센티브와 스톡옵션 등을 포함해 수십억 원 규모의 보상을 받은 것으로 나타났다. 이러한 정황은 계획적인 기술 유출 가능성을 뒷받침하는 요소로 작용했다.

이번 사건은 인력 이동과 기술 보호 사이의 경계 문제를 다시 부각시키고 있다. 특히 핵심 인력이 해외 기업으로 이동하는 과정에서 기술 유출이 발생할 수 있다는 점에서 제도적 보완 필요성도 제기된다. 반도체를 비롯한 첨단 산업 분야에서 유사 사례를 방지하기 위한 대응책 마련이 요구되는 상황이다.

법조계와 산업계에서는 이번 판결을 계기로 기술 유출 범죄에 대한 처벌 수위와 예방 체계에 대한 논의가 이어질 것으로 보고 있다. 국가 핵심 기술 보호를 위한 관리 강화와 함께 기업 차원의 보안 대응도 중요 과제로 떠오르고 있다.