“피해 수십조” 中에 국가핵심기술 유출한 전 삼전 직원, 결국

삼성전자의 국가핵심기술로 분류된 디(D)램 공정 기술이 중국 반도체 기업으로 유출된 사건과 관련해 검찰이 전·현직 개발 인력들을 무더기로 재판에 넘겼다. 세계 최초로 개발된 10나노대 디램 공정 기술이 조직적으로 빼돌려졌다는 점에서 산업계와 국가 경제 전반에 미칠 파장이 적지 않다는 평가가 나온다.

검찰은 이번 사건으로 인해 삼성전자의 매출 감소와 함께 장기적으로 수십조 원대 국가 경제 피해가 발생할 수 있다고 판단했다. 기술 유출의 전 과정이 국내와 중국 현지를 넘나들며 이뤄졌다는 점도 수사의 핵심으로 지목됐다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부는 23일 삼성전자에서 근무하다 중국 반도체 회사인 창신메모리 반도체(CXMT)로 이직한 전직 임직원 등을 산업기술보호법 위반 혐의로 기소했다고 밝혔다.

검찰은 전 삼성전자 상무 출신으로 창신메모리 개발실장을 맡았던 양 모 씨 등 핵심 개발 인력 5명을 구속기소하고, 파트별 개발 책임자 등 5명을 불구속기소 했다. 이들은 국가핵심기술에 해당하는 디램 공정 정보를 국외로 유출한 혐의를 받고 있다.

유출된 기술은 삼성전자가 5년간 약 1조 6,000억 원을 투입해 세계 최초로 개발한 10나노대 디램 최신 공정 기술이다. 수백 단계에 이르는 공정 정보가 집약된 핵심 기술로, 당시 전 세계에서 유일하게 삼성전자만 보유하고 있던 것으로 알려졌다.

검찰에 따르면 창신메모리 2기 개발팀은 삼성전자 1기 개발팀으로부터 18나노 디램 공정 정보를 전달받아 2018년 2월부터 2023년 초까지 중국 현지 설비에 맞게 이를 수정하고 검증하는 방식으로 디램 개발을 진행했다.

이 과정에서 다른 국내 반도체 기업의 기술도 추가로 유출된 정황이 드러났다. 창신메모리의 클린공정 담당 피고인 가운데 한 명은 2020년 6월 SK하이닉스 협력업체를 통해 SK하이닉스의 국가핵심기술인 디램 공정 정보를 불법 취득한 것으로 조사됐다.

검찰은 삼성전자 연구원이 이직 과정에서 수백 단계의 공정 정보를 베껴 적어 유출했고, 이를 토대로 창신메모리가 추가 기술을 확보해 중국 최초의 디램 양산에 성공했다고 설명했다.

검찰은 이들이 삼성전자의 실제 디램 제품을 분해해 유출 자료를 검증하고 제조 테스트를 거쳐 2023년 18나노 디램 양산에 성공했다고 밝혔다. 양 씨 등은 창신메모리로부터 4~6년 동안 각각 15억~30억 원의 급여를 받은 것으로 조사됐다. 검찰은 이번 기술 유출로 인해 삼성전자의 지난해 매출 감소액만 약 5조 원에 이를 것으로 추정했다.

검찰은 반도체 산업이 전체 수출의 20% 이상을 차지하는 점을 고려할 때 장기적으로 국가 경제에 미치는 피해는 최소 수십조 원에 달할 수 있다고 전했다. 특히 국외에서 이뤄진 기술 유출 범죄라도 끝까지 추적해 처벌하겠다는 점을 강조하며 이번 기소가 향후 유사 범죄를 억제하는 계기가 될 것이라고 밝혔다.